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NEWS INFORMATIONPECVD系統(tǒng)技術(shù)是在低氣壓下,利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上(即樣品放置的托盤)產(chǎn)生輝光放電,利用輝光放電(或另加發(fā)熱體)使樣品升溫到預(yù)定的溫度,然后通入適量的工藝氣體,這些氣體經(jīng)一系列化學(xué)反應(yīng)和等離子體反應(yīng),最終在樣品表面形成固態(tài)薄膜。在反應(yīng)過程中,反應(yīng)氣體從進(jìn)氣口進(jìn)入爐腔,逐漸擴(kuò)散至樣品表面,在射頻源激發(fā)的電場(chǎng)作用下,反應(yīng)氣體分解成電子、離子和活性基團(tuán)等。這些分解物發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成形成膜的初始成分和副反應(yīng)物,這些生成物以化學(xué)鍵的形式吸附到樣品表面,生成固態(tài)膜的晶核...
連續(xù)式回轉(zhuǎn)爐適用于無機(jī)鹽粉體材料(如磷酸鐵鋰、碳酸錳、碳酸鋇)、金屬粉體等在氧化性(如空氣)或還原性氣氛(如氮?dú)浠旌蠚猓┫碌谋簾磻?yīng),也適用于化工行業(yè)催化劑載體氧化性處理以及石墨烯、納米材料、稀土等高新材料。回轉(zhuǎn)窯的主要特點(diǎn):在熱處理即焙燒過程中,回轉(zhuǎn)筒體有個(gè)小傾斜度,散裝固體在窯中不斷地從進(jìn)料端移動(dòng)到出料端。窯爐一般都是連續(xù)、自動(dòng)運(yùn)行的。它們可以直接運(yùn)輸散裝固體,而不需要進(jìn)一步的輸送設(shè)備,這使得這些窯爐更加節(jié)能。由于回轉(zhuǎn)窯焙燒工藝對(duì)散裝固體或者粉體有著重要的機(jī)械影響,因此必...
相信大多數(shù)人都知道,在工業(yè)上使用的氣氛管式爐中,許多可控氣體是可燃的,在特殊的條件下可能發(fā)生爆炸。這種爆炸可能損壞設(shè)備和威脅操作人員的人身安全。因此,在設(shè)備運(yùn)行中,應(yīng)對(duì)潛在的危險(xiǎn)給予高度重視。在已發(fā)生的事件中,特別引人注意的是,必須按照操作規(guī)程進(jìn)行操作。在可能發(fā)生危險(xiǎn)之前,必須認(rèn)真分析和研究安全操作規(guī)程。沒有多少設(shè)備在任何危急的情況下都能安全地運(yùn)行。既使能做到這一點(diǎn),但為了提高生產(chǎn)率,技術(shù)熟練的操作者往往也不愿意在整個(gè)生產(chǎn)過程中使用所有的安全系統(tǒng)。下面我們一起去看看氣氛管式爐...
PECVD系統(tǒng)主要由真空和壓力控制系統(tǒng)、淀積系統(tǒng)、氣體及流量控制、系統(tǒng)安全保護(hù)系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)控制等部分組成。該技術(shù)是在低氣壓下,利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上(即樣品放置的托盤)產(chǎn)生輝光放電,利用輝光放電(或另加發(fā)熱體)使樣品升溫到預(yù)定的溫度,然后通入適量的工藝氣體,這些氣體經(jīng)一系列化學(xué)反應(yīng)和等離子體反應(yīng),最終在樣品表面形成固態(tài)薄膜。工藝原理:在反應(yīng)過程中,反應(yīng)氣體從進(jìn)氣口進(jìn)入爐腔,逐漸擴(kuò)散至樣品表面,在射頻源激發(fā)的電場(chǎng)作用下,反應(yīng)氣體分解成電子、離子和活性基團(tuán)等。這些分解...
滑軌式管式爐是一體化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),用于1100℃以下快速升溫快速降溫的特殊工藝要求,通過移動(dòng)爐體實(shí)現(xiàn)快速冷卻的目的。同時(shí)也可以預(yù)先設(shè)定溫度,然后移動(dòng)到樣品處,達(dá)到快速升溫的效果。適合用于廣泛的RTP工藝及CVD石墨烯工藝。適用于要求升降溫速度比較快的CVD實(shí)驗(yàn)。爐體采用MXG1200開啟式管式爐,爐底安裝有直線滑軌,當(dāng)生長結(jié)束后,左右拉動(dòng)爐體能夠保證有足夠的空間使實(shí)驗(yàn)樣品移出爐體,實(shí)現(xiàn)快速降溫的要求。性能特點(diǎn):1、工作溫度RT-1000℃;2、日本進(jìn)口智能程序控溫儀控制精準(zhǔn),可編...
壓力燒結(jié)爐采用立式結(jié)構(gòu)由爐體、爐升蓋降機(jī)構(gòu)、真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng),溫控系統(tǒng)等組成。爐體采用雙層水冷結(jié)構(gòu),內(nèi)壁為16MnR壓力容器專用鋼,外層優(yōu)質(zhì)碳鋼,中間通水冷卻。爐內(nèi)發(fā)熱元件為石墨管,保溫元件為碳?xì)旨笆珡?fù)合結(jié)構(gòu)。爐側(cè)裝有一觀察孔、紅外測(cè)溫口、熱電偶孔。熱電偶選用鎢錸型,同時(shí)具有高溫時(shí)自動(dòng)退出加熱區(qū)的功能。適用于氮化硅陶瓷球,陶瓷刀具、LED粉體還原與燒結(jié)、硬質(zhì)合金,粉末冶金燒結(jié)等材料在高壓氮?dú)饣驓鍤鈿夥諆?nèi)進(jìn)行燒結(jié),有利于增加材料的燒結(jié)密度,提高材料的機(jī)械性能。燒結(jié)工藝應(yīng)用:...
高溫管式爐主要運(yùn)用于冶金,玻璃,熱處理,鋰電正負(fù)極材料,新能源,LED發(fā)光材料,磨具等行業(yè)測(cè)定材料在一定氣氛條件下的專業(yè)設(shè)備??蛇x擇單設(shè)定點(diǎn)或30段可編程控制器。節(jié)能型的陶瓷纖維材料和雙層結(jié)構(gòu),可將外表溫度降到常溫。均溫區(qū)長,操作簡便,密封可靠,綜合性能指標(biāo)較高。爐管可選擇配置耐熱鋼、石英玻璃、陶瓷管等材料。高溫管式爐的結(jié)構(gòu)簡單,熱效率高,又能連續(xù)生產(chǎn),并且操作方便,因此在冶金,玻璃,熱處理,新能源等的行業(yè)中有著廣泛的應(yīng)用,為了更好地使用,要注意使用規(guī)范,以下是根據(jù)相關(guān)工作人...
什么是PECVD系統(tǒng)?它是化學(xué)氣相沉積法,是一種化工技術(shù),該技術(shù)主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)、在襯底表面上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的方法。它是一種PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)的管式爐系統(tǒng),它由500W射頻電源、帶有200毫米直徑石英管的可拆分管式爐、真空泵和三通道質(zhì)量流量計(jì)氣體流動(dòng)系統(tǒng)組成。它可以混合1-3種氣體用于CVD或擴(kuò)散?;瘜W(xué)氣相淀積法已經(jīng)廣泛用于提純物質(zhì)、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態(tài)無機(jī)薄膜材料。這些材料可以是氧化物、硫化物、氮...
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